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SIGMAKOKI 長(cháng)工作距離物鏡 EPLE-50 EPLE-20 長(cháng)工作物鏡 / EPL-10 具有無(wú)限遠校正功能、齊焦距離為 45 mm 的長(cháng)工作物鏡,可用于同軸觀(guān)察系統和激光引入光學(xué)系統。 除了對遠處物體進(jìn)行顯微觀(guān)察外,它還可以用于聚焦可見(jiàn)激光。
更新時(shí)間:2024-09-03SIGMAKOKI 西格瑪 長(cháng)工作物鏡 EPL-5 EPL-10 長(cháng)工作物鏡 / EPL-10 具有無(wú)限遠校正功能、齊焦距離為 45 mm 的長(cháng)工作物鏡,可用于同軸觀(guān)察系統和激光引入光學(xué)系統。 除了對遠處物體進(jìn)行顯微觀(guān)察外,它還可以用于聚焦可見(jiàn)激光。
更新時(shí)間:2024-09-03SIGMAKOKI西格瑪 管透鏡 TL-NIR-1.0X TL-Y3 套筒透鏡 / TL-VIS-0.5X 用于可見(jiàn)觀(guān)察的 0.5x、f=100mm 管透鏡。
更新時(shí)間:2024-09-03SIGMAKOKI西格瑪 管透鏡 TL-VIS-0.5X TL-Y4 套筒透鏡 / TL-VIS-0.5X 用于可見(jiàn)觀(guān)察的 0.5x、f=100mm 管透鏡。
更新時(shí)間:2024-09-03SIGMAKOKI 半導體激光支架 LDH3-635-4.5 可見(jiàn)半導體激光支架/LDH3-405-3.5 本產(chǎn)品的鏡架(MHL-25.4S)內置有半導體激光器(LDU33)。激光束的方向可以精確調整。
更新時(shí)間:2024-09-03SIGMAKOKI 半導體激光支架 LDH3-405-3.5 可見(jiàn)半導體激光支架/LDH3-405-3.5 本產(chǎn)品的鏡架(MHL-25.4S)內置有半導體激光器(LDU33)。激光束的方向可以精確調整。
更新時(shí)間:2024-09-03SIGMAKOKI 波長(cháng)物鏡 PFL-50-UV/NUV-AG-A 3 波長(cháng)物鏡 (PFL-UV/NUV-AG) 該物鏡可用于3波長(cháng)脈沖激光加工設備:YAG的2次諧波(532nm)、3次諧波(355nm)和4次諧波(266nm)。通過(guò)三個(gè) YAG 波長(cháng)實(shí)現高透射率。 它具有長(cháng)工作距離 (WD) 并可校正場(chǎng)曲,使您能夠獲得一直到視場(chǎng)邊緣的自然觀(guān)察圖像。
更新時(shí)間:2024-09-03日本 SIGMAKOKI 波長(cháng)物鏡 PFL-10-UV/NUV-AG 3 波長(cháng)物鏡 (PFL-UV/NUV-AG) 該物鏡可用于3波長(cháng)脈沖激光加工設備:YAG的2次諧波(532nm)、3次諧波(355nm)和4次諧波(266nm)。通過(guò)三個(gè) YAG 波長(cháng)實(shí)現高透射率。 它具有長(cháng)工作距離 (WD) 并可校正場(chǎng)曲,使您能夠獲得一直到視場(chǎng)邊緣的自然觀(guān)察圖像。
更新時(shí)間:2024-09-03日本 SIGMAKOKI 西格瑪 反射物鏡 OBLR-20A 反射物鏡/OBLR-30A 該物鏡由反射鏡構成,不受玻璃折射率引起的色差影響,因此可在350nm至7μm的寬波長(cháng)范圍內使用。 它可用于顯微光譜和半導體失效分析。
更新時(shí)間:2024-09-03日本 SIGMAKOKI 西格瑪 反射物鏡 OBLR-30A 反射物鏡/OBLR-30A 該物鏡由反射鏡構成,不受玻璃折射率引起的色差影響,因此可在350nm至7μm的寬波長(cháng)范圍內使用。 它可用于顯微光譜和半導體失效分析。
更新時(shí)間:2024-09-03CONTACT
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